供应:无限制
关键词:晶圆清洗设备 晶圆清洗机 离子源清洗 硅片清洗机 离子束清洗系统
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NIE-3000离子束清洗系统产品概述:该系统为手动放片取片,但通过计算机全自动实现工艺控制的台式离子束刻蚀系统,系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。NIE-3000离子束清洗系统产品特点:低成本离子束:高达2KV/10mA离子电流密度100-360uA/cm2离子束直径:4',5',6'兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)极限真空5x10-7Torr260l涡轮分子泵,串接500 l/min干泵14'不锈钢或铝质腔体水冷旋转/倾斜样品台(NIE-3500)自动上下载片(NIE-3500)基于LabView软件的PC计算机全自动控制占地面积30'x30'NIE-3000离子束清洗系统产品应用:表面处理离子铣表面清洗带活性气体的离子束刻蚀: 光栅刻蚀,以及SiO2,Si和金属的深槽刻蚀http:17317363700.b2b168.com