供应:无限制
关键词:氧化镁薄膜单晶基片
联系咨询
保定众铂商贸有限公司*销售实验用新材料的及科工贸为一体的*贸易公司，现提供氧化镁。 单晶基片广泛应用在多个薄膜技术领域中。如用于制作磁学薄膜、半导体薄膜、光 学薄膜和高温*导薄膜等。由于 MgO 单晶在微波波段的介电常数和损耗都很小，且能得到大面积的基片（直径 2 英寸及*大），所以是当前产业化的重要高温*导薄膜单晶基片之一。 可用于制作移动通讯设备所需的高温*导微波滤波器等器件。具有很大的现实及潜在应用市场。 主要性能参数 生长方法：弧熔法 晶体结构：立方 晶格常数：a=4.130 ? 熔点（℃）：2800 纯度：99.95% 密度：3.58（g/cm3） 硬度：5.5（mohs） 热膨胀系数（/℃）：11.2x10-6 晶体解理面： 光学透过：>90%（200~400nm），>98%（500~1000nm） 介电常数：ε= 9.65 热导率（卡／度 厘米 秒）：0.14 300°K 尺寸：10x3，10x5，10x10，15x15，，20x15，20x20，dia2” x 0.33mm dia2” x 0.43mm 15 x15 mm 厚度：0.5mm，1.0mm 抛光：单面或双面 晶向：±0.5o 晶面定向精度: ±0.5° 边缘定向精度： 2°（特殊要求可达 1°以内） 斜切晶片：可按特定需求，加工边缘取向的晶面按特定角度倾斜（倾斜角 1°－45°）的晶片。 Ra:：≤5?（5μm×5μm） 主要特点：由于 MgO 单晶在微波波段的介电常数和损耗都很小，且能得到大面积的基片（直径 2 英寸及*大），所以是当前产业化的重要高温*导薄膜单晶基片之一。 主要用途：用于制作磁学薄膜、半导体薄膜、光学薄膜和高温*导薄膜等, 也可用于制作移 动通讯设备所需的高温*导微波滤波器等器件。 包装：100 级洁净袋，1000 级*净室
